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            CVD系統(tǒng)

            更新時間: 2025-03-07

            訪問次數(shù): 13882

            產(chǎn)品報價:

            產(chǎn)品簡介: CVD系統(tǒng)系周期作業(yè),供企業(yè)實驗室,大專院校,科研院所等單位選用,設(shè)備為用戶提供具體真空、可控氣氛及高溫的實驗環(huán)境,應(yīng)用在半導體,納米技術(shù),碳纖維等新材料新工藝領(lǐng)域。

            詳細資料:

            CVD系統(tǒng)適用領(lǐng)域:

                CVD系統(tǒng)設(shè)備由沉積溫度控件、沉積反應(yīng)室、真空控制部件和氣源控制備件等部分組成亦可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn),除了主要應(yīng)用在碳納米材料制備行業(yè)外,現(xiàn)在正在使用在許多行業(yè),包括納米電子學、半導體、光電工程的研發(fā)、涂料等領(lǐng)域 。

                CVD成長系統(tǒng)是利用氣態(tài)化合物或化合物的混合物在基體受熱面上發(fā)生化學反應(yīng),從而在基體表面上生成不揮發(fā)涂層的一種薄膜材料制備系統(tǒng)。

            CVD系統(tǒng)產(chǎn)品的特點:
                1.兼容、常壓、微正壓多種主流的生長模式
                2.可以在1000Pa-0.1Pa之間任意氣壓下進行石墨烯的生長
                3.使用計算機控制,可以設(shè)置多種生長參數(shù)
                4.可以制備高質(zhì)量,大面積石墨烯等碳材料,尺寸可達數(shù)厘米,研究動力學過程
                5. 沉積效率高;薄膜的成分可控,配比范圍大;厚度范圍廣,由幾百埃至數(shù)毫米,可以實現(xiàn)厚膜沉積且能大量生產(chǎn)

            產(chǎn)品用途:

            此款CVD系統(tǒng)適用于CVD工藝,如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控

            生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結(jié)真空淬火退火,快速降溫等工藝實驗。

            產(chǎn)品組成:

            配置:

            1.1200度開啟式真空管式爐(可選配多溫區(qū))。

            2.滑動系統(tǒng)分為手動、電動滑動,并配有風冷系統(tǒng)。

            3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)

            4.真空系統(tǒng)(可選配中真空或高真空)    




            控制電路選用模糊PID程控技術(shù),該技術(shù)控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。



            中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動控制功能,高真空系統(tǒng)采用高壓強,耐沖擊分子泵,防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長系統(tǒng)使用壽命。

            電動)滑動系統(tǒng)采用溫度控制器自動控制爐體移動,等程序完成,爐體按設(shè)定的速度滑動,因有滑動限位功能爐體不會發(fā)生碰撞,待樣品露出爐體后,通過風冷系統(tǒng)快速降溫。

             

             
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